平坦然（苏州）技术有限公司参加第十八届第一批科技领军人才评审答辩会

苏州——近日，第十八届第一批科技领军人才评审答辩会在苏州工业园区隆重举行。为期两天的时间里，来自全球440个优秀项目集聚园区，由评审专家现场进行评分并给出评价意见。平坦然（苏州）技术有限公司作为参评企业之一，展示了其在半导体化学机械抛光（CMP）领域的领先技术和创新产品，答辩过程十分顺利。

活动概况

本次评审答辩会旨在选拔和扶持具有创新性和前瞻性的科技项目，助力园区科技创新和产业升级。活动分为领军、领军成长和创新领军三个类型，入选项目将获得不同程度的政策支持和资金扶持，最高可获得超5000万元的资金支持。自今年4月科技领军人才申报通道开通以来，受到了全球广泛关注，累计收到项目申报近1000个。经过形式审查及专家网评后，本批进入专家面试环节的项目涉及生物医药及大健康、纳米技术应用及新材料、人工智能及数字产业、新能源及绿色产业、集成电路、高端装备制造、新一代信息技术等新兴产业重点领域。

平坦然公司的答辩表现

平坦然（苏州）技术有限公司在答辩过程中展示了其最新的PlanarPad™抛光垫和PlanarDisk™调节器产品。这些产品采用了独特的无孔隙技术，实现了在低CoC条件下的稳定抛光效果，延长了产品的使用寿命，并优化了平坦化表现。PlanarDisk™调节器通过CVD钻石膜技术，具备更长的使用寿命和更稳定的性能，适用于对金属污染敏感的先进工艺节点。

公司技术团队详细介绍了PlanarPad™和PlanarDisk™产品的研发过程和技术特点，并展示了这些产品在半导体制造中的应用前景。评审专家们对平坦然公司的技术创新和产品应用给予了高度评价，认为其具有很强的市场竞争力和广阔的发展前景。

公司背景

平坦然（苏州）技术有限公司成立于2023年，总部位于江苏省苏州市工业园区，并在新加坡设有研发中心。公司致力于半导体化学机械抛光（CMP）领域，专注于研发和生产抛光垫和调节器产品。自成立以来，公司秉承“创新引领未来”的发展理念，致力于成为中国领先的抛光垫和调节器制造商，并在全球前沿技术与创新解决方案领域占据一席之地。

未来展望

此次答辩的成功，为平坦然公司进一步拓展市场、提升品牌影响力奠定了坚实基础。公司将继续加强技术研发和市场推广，致力于为客户提供最高品质的产品和服务，推动半导体行业的发展与进步。平坦然（苏州）技术有限公司的全体员工将继续努力，秉持卓越之志，不懈追求，力求在全球高科技产品领域中为中国赢得更多荣誉。

联系方式

电话：+86-1826-001-6243
邮箱：sales@planarx.com
地址：苏州工业园区扬富路11号南岸新地一期5幢706
官网：http://planarx.com

通过此次活动，平坦然公司不仅展示了自身的技术实力和创新能力，还与业内同行进行了深入交流，探讨了未来发展的新机遇。公司将继续秉承“创新引领未来”的理念，不断推动技术进步，为客户提供优质的产品和服务，推动半导体行业的持续发展。